به گزارش گروه علمی «خبرگزاری دانشجو»، دكتر مهدی كشمیری با اشاره به روش رسوب فیزیکی (PVD) گفت: فناوری PVD به طور كلی شامل مجموعه تكنیك‌هایی است كه به وسیله آنها با تبخیر یك یا چند فلز در یك محفظه خلا و تبدیل این بخار فلزی به پلاسمای اكتیو فلزی و تركیب این پلاسما با پلاسمای اكتیو غیر فلزی ناشی از یونیزاسیون همزمان، یک لایه نازک با خواص مطلوب بر روی قطعه كار رسوب داده می‌شود.
وی افزود: بدیهی است خواص این لایه PVD تشكیل شده روی قطعه كار به تركیب آن و تكنیک لایه نشانی بستگی دارد كه محققان شهرک علمی تحقیقاتی اصفهان موفق شدند با كنترل نسبت عناصر فلزی تبخیر شونده و كنترل شرایط رسوب؛ به فناوری رسوب پوشش‌های نانوكامپوزیت TiAlN-Si۳N۴ (نیترید تیتانیوم آلومینیوم) و TiC-DLC دست یابد.
رئیس شهرک علمی تحقیقاتی اصفهان با بیان اینکه در این فناوری یكی از پیشرفته‌ترین روش‌های لایه نشانی با عنوان Cathodic Arc Deposition استفاده می‌شود، ادامه داد: در آن به علت قابلیت دستیابی به درصد بالای یونیزاسیون ذرات و انرژی رسوب بالای ذرات و به علت قابلیت تبخیر كنترل شده چند عنصر به طور همزمان؛ علاوه بر ایجاد انواع پوشش‌های كریستالی با ساختار مونو بلوك، امكان دستیابی به ساختار نانوكامپوزیت نیز فراهم شده است.
کشمیری چنین ادامه داد : پوشش‌های نانوكامپوزیت از اوایل سال ۲۰۰۰ در كشورهای پیشرفته كاربرد وسیعی در كنترل خواص سطحی قطعات كاربردی در صنایع مختلف از جمله صنایع هوافضا و انرژی هسته‌ای داشته‌اند.
وی خاطر نشان کرد: این محققان در فاز اول با تكیه بر دانش بومی اقدام به راه اندازی راكتور ایجاد پوشش‌های سطحی سخت به روش رسوب فیزیكی بخار (PVD) با فناوری آرك كاتدی کردند و با انجام فعالیت تحقیق و توسعه متعدد، موفق به ایجاد و ارایه این پوشش‌ها در مقیاس صنعتی شده است. در ادامه این پژوهشگران قصد دارند با طراحی و تجهیز راكتور پوشش دهی، در جهت ایجاد پوشش‌های با ساختار نانو لایه نیز گام بردارند.
ارسال نظرات