گرافن موجب بهبود عملکرد نانولیتوگرافی صنعتی می‌شود

به گزارش گروه دانشگاه خبرگزاری دانشجو، یک شرکت کره‌ای قصد دارد تا با استفاده از گرافن لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) را توسعه می‌دهد. این شرکت ماده‌ای ارائه کرده است که انتظار می‌رود عملکرد تجهیزات لیتوگرافی فرابنفش شدید شرکت ASML را بهبود دهد. ASML یک شرکت تجهیزات نیمه‌هادی هلندی است.

گرافن‌لب (Graphene Lab)، توسعه‌دهنده نیمه هادی و مواد نمایشگر، اعلام کرد که این فناوری را برای تولید پلیکول‌های EUV با کمتر از ۵ نانومتر با گرافن تهیه کرده و برای تولید انبوه پلیکول‌ها آماده است.

وون یونگ دوک مدیرعامل گرافن لبز می‌گوید: «پیش از این، پلیکول‌ها از سیلیکون ساخته می‌شدند. اما ما از گرافن استفاده کردیم. پلیکول‌های گرافنی به‌عنوان تقویت‌کننده می‌توانند بازده شرکت‌های نیمه‌هادی را که از تجهیزات لیتوگرافی EUV ASML استفاده می‌کنند، افزایش دهند.»

پلیکول یک فیلم نازک است که از سطح یک فتوم ماسک در برابر مولکول‌ها یا آلاینده‌های موجود در هوا محافظت می‌کند. برای فرآیند‌های ساخت در ابعاد ۵ نانومتر و یا کمتر استفاده از این فیلم ضروری است. این ماده به‌عنوان یک ترکیب مصرفی است که نیاز به جایگزینی دوره‌ای دارد. از آنجا که طول موج منبع نور تجهیزات EUV کوتاه است، برای افزایش انتقال نور، پلیکول‌ها باید نازک باشند. پیش از این، از سیلیکون برای ساخت پلیکول‌ها استفاده می‌شد، اما گرافن ماده بهتری است، زیرا نازک‌تر و شفاف‌تر از سیلیکون است.

پلیکول‌های EUV باید در برابر دمای بالا نظیر ۸۰۰ درجه یا بالاتر که در طی فرایند قرار گرفتن در معرض پرتو فرابنفش رخ می‌دهد، مقاومت کنند. سیلیکون به دلیل خاصیت سخت‌کنندگی که دارد، در دما‌های بالا بسیار مستعد شکستگی است.

پیش بینی می‌شود بازار جهانی پلیکول‌ها در سال ۲۰۲۴ به ۱ تریلیون وون برسد. وون یونگ دوک مدیرعامل این شرکت می‌گوید که شرکت‌های اینتل، سامسونگ و TSMC مشتریان بالقوه گرافن‌لبز هستند.