در قالب یک برنامه تحقیقاتی؛
به گزارش گروه فناوری خبرگزاری دانشجو، ابزار جدید «CVD» برای تولید لایه‌های گرافن با مساحت زیاد به عنوان بخشی از پروژه تحقیقاتی « GIMMIK » ، به بهره‌برداری رسیده است. شرکت ایکسترون اس‌ای «AIXTRON SE» یکی از بزرگترین تأمین‌کنندگان تجهیزات لایه‌نشانی در صنعت نیمه‌هادی، یک راکتور با درجه صنعتی جدید ارائه کرده است، این دستگاه به صورت ویژه برای پردازش گرافن و نیترید بور شش‌ضلعی «hBN» روی ویفر‌های ۲۰۰ میلی‌متر طراحی و تولید شده است.
«hBN» یک ترکیب متشکل از بور و نیتروژن بوده که ساختار بلوری شش‌ضلعی دارد. این راکتور می‌تواند در فرآیند تولید مشخصات دقیق محصول مورد نیاز برای کاربرد صنعتی را تامین کند.
پروژه تحقیقاتی« GIMMIK پردازش گرافن روی ویفر‌های ۲۰۰ میلی‌متری برای کاربرد‌های میکروالکترونیک» باید منجر به کاربرد صنعتی گرافن و «hBN» شود. بنابراین، لایه‌های گرافن تولیدشده قرار است در شرایط صنعتی ارزیابی شود. شرکای این کنسرسیوم، در حال توسعه روش‌هایی برای اطمینان از کیفیت مداوم گرافن و «hBN» به عنوان مبنایی برای تولید مناسب برای فرآیند‌های لایه‌نشانی و یکپارچه‌سازی هستند.
در حال حاضر، ایکسترون تولید لایه‌های « GR / hBN » برای شرکای کنسرسیوم را آغاز کرده و بهینه‌سازی لایه‌ها و فرآیند‌ها نیز شروع شده است. شرکت‌کنندگان در این پروژه مرکز تحقیقاتی IHP – موسسه میکروالکترونیک نوآورانه لایبنیتز و چند شرکت بزرگ در صنعت نیمه‌هادی هستند و ایکسترون نیز هماهنگ‌کننده پروژه است. هدف اصلی این پروژه، پشتیبانی از کاربرد‌های صنعتی GR / hBN است.
پروفسور مایکل هیوکن، مسئول تحقیق و توسعه شرکت ایکسترون و استاد دانشگاه «RWTH» آخن می‌گوید: «پس از نصب و آزمایش سیستم جدید «CVD»، در پروژه «GIMMIK» قدم قاطعی برداشته‌ایم. چرا که در حال حاضر سیستم ویژه‌ای را برای این پروژه در اختیار داریم، ابزاری که با آن قادریم کار خود را در زمینه توسعه فرآیند‌های تولید لایه با اندازه و کیفیت مناسب روی ویفر‌ها به پیش ببریم. این فناوری و قابلیت‌های آن برای برنامه‌های کاربردی در بازار‌های میکروالکترونیک و فناوری حسگر بسیار مهم است. اکنون ما آماده‌ایم گام‌های بعدی را برای توسعه دستگاه‌های جدید و همچنین تولید آن‌ها در این پروژه مهم تحقیقاتی برداریم.»
گرافن و «hBN» می‌تواند نقش مهمی در تولید محصولات نوآورانه و ایجاد بهره‌وری انرژی داشته باشد. طیف گسترده‌ای از کاربرد‌ها مانند ساخت ترانزیستور، حسگر، دستگاه فوتونیک با این مواد امکان‌پذیر است.
پروفسور مایکل هوکن تأکید می‌کند: « گرافن و «hBN» که به روش «CVD» تولید شده‌است می‌تواند به یکی از مهمترین چالش‌ها یعنی نیاز به بازده انرژی به میزان قابل توجهی کمک کند.»
«hBN» یک ترکیب متشکل از بور و نیتروژن بوده که ساختار بلوری شش‌ضلعی دارد. این راکتور می‌تواند در فرآیند تولید مشخصات دقیق محصول مورد نیاز برای کاربرد صنعتی را تامین کند.
پروژه تحقیقاتی« GIMMIK پردازش گرافن روی ویفر‌های ۲۰۰ میلی‌متری برای کاربرد‌های میکروالکترونیک» باید منجر به کاربرد صنعتی گرافن و «hBN» شود. بنابراین، لایه‌های گرافن تولیدشده قرار است در شرایط صنعتی ارزیابی شود. شرکای این کنسرسیوم، در حال توسعه روش‌هایی برای اطمینان از کیفیت مداوم گرافن و «hBN» به عنوان مبنایی برای تولید مناسب برای فرآیند‌های لایه‌نشانی و یکپارچه‌سازی هستند.
در حال حاضر، ایکسترون تولید لایه‌های « GR / hBN » برای شرکای کنسرسیوم را آغاز کرده و بهینه‌سازی لایه‌ها و فرآیند‌ها نیز شروع شده است. شرکت‌کنندگان در این پروژه مرکز تحقیقاتی IHP – موسسه میکروالکترونیک نوآورانه لایبنیتز و چند شرکت بزرگ در صنعت نیمه‌هادی هستند و ایکسترون نیز هماهنگ‌کننده پروژه است. هدف اصلی این پروژه، پشتیبانی از کاربرد‌های صنعتی GR / hBN است.
پروفسور مایکل هیوکن، مسئول تحقیق و توسعه شرکت ایکسترون و استاد دانشگاه «RWTH» آخن می‌گوید: «پس از نصب و آزمایش سیستم جدید «CVD»، در پروژه «GIMMIK» قدم قاطعی برداشته‌ایم. چرا که در حال حاضر سیستم ویژه‌ای را برای این پروژه در اختیار داریم، ابزاری که با آن قادریم کار خود را در زمینه توسعه فرآیند‌های تولید لایه با اندازه و کیفیت مناسب روی ویفر‌ها به پیش ببریم. این فناوری و قابلیت‌های آن برای برنامه‌های کاربردی در بازار‌های میکروالکترونیک و فناوری حسگر بسیار مهم است. اکنون ما آماده‌ایم گام‌های بعدی را برای توسعه دستگاه‌های جدید و همچنین تولید آن‌ها در این پروژه مهم تحقیقاتی برداریم.»
گرافن و «hBN» می‌تواند نقش مهمی در تولید محصولات نوآورانه و ایجاد بهره‌وری انرژی داشته باشد. طیف گسترده‌ای از کاربرد‌ها مانند ساخت ترانزیستور، حسگر، دستگاه فوتونیک با این مواد امکان‌پذیر است.
پروفسور مایکل هوکن تأکید می‌کند: « گرافن و «hBN» که به روش «CVD» تولید شده‌است می‌تواند به یکی از مهمترین چالش‌ها یعنی نیاز به بازده انرژی به میزان قابل توجهی کمک کند.»
ارسال نظرات