با قابلیت استفاده در فیلم سه‌بعدی؛
به گزارش گروه فناوری خبرگزاری دانشجو، روش جدیدی برای لایه‌نشانی اتمی در دانشگاه آلاباما در هانتسویل (UAH) ابداع شده که در آن یک لایه اتمی روی سطح فلز در دمای اتاق ایجاد می‌شود.
مونهیونگ جانگ از محققان این پروژه، ایده استفاده از فناوری اتمیزه سازی با اولتراسونیک برای تبخیر مواد شیمیایی مورد استفاده از ALD را هنگام خرید یک دستگاه مرطوب‌کننده خانگی به دست آورد.
جانگ در آزمایشگاه یو لی از دپارتمان مهندسی شیمی همکاری می‌کند، آن‌ها نتایج یافته‌های خود را در Journal of Vacuum Science & Technology A به چاپ رسانده‌اند.
لی در این باره گفت: «ALD یک روش لایه نشانی اتمی فیلم سه‌بعدی است که نقش مهمی در صنعت میکروالکترونیک داشته و در واحد‌های پردازش مرکزی این صنعت برای تولید حافظه استفاده می‌شود.»
در هر چرخه ALD لایه‌ای به عمق چند اتم رسوب می‌کند، یک فرآیند ALD شامل چندین تکرار چرخه لایه نشانی است. یکنواختی فیلم‌های نازک به واکنش خود محدود کنندگی سطحی میان بخار پیش ماده و زیرلایه بستگی دارد.
لی افزود: «ALD در حالی که مواد را به صورت یکنواخت روی ویفر‌های بزرگ سیلیکونی رسوب می‌دهد، برای تولید با حجم بالا و ایجاد مورفولوژی نانومتری مناسب است. این یک روش کلیدی برای تولید دستگاه‌های هوشمند قدرتمند و کوچک است.»
جانگ هنگام بررسی رطوبت‌ساز‌های خانگی متوجه شد که این دستگاه‌ها از حرارت مستقیم با دمای بالا یا امواج اولتراسونیک در دمای اتاق برای تولید ذرات بخار آب استفاده می‌کنند.
لی می‌گوید: «ما دریافتیم که روش دوم (اولتراسونیک) می‌تواند روشی ایمن و ساده برای تولید بخار از مواد شیمیایی باشد، به ویژه برای موادی که از نظر حرارتی ناپایدار هستند. روز بعد ما برای اثبات این مفهوم در آزمایشگاه تحقیقاتی خود، آزمایش‌هایی را طراحی کردیم و تمام مراحل کار تقریبا یک سال طول کشید.»
با استفاده از این فناوری که محققان این پروژه ابداع کردند می‌توان موادی که از نظر حرارتی ناپایدار بوده و برای گرمایش مستقیم مناسب نیستند را برای ALD به کار گرفت.
مونهیونگ جانگ از محققان این پروژه، ایده استفاده از فناوری اتمیزه سازی با اولتراسونیک برای تبخیر مواد شیمیایی مورد استفاده از ALD را هنگام خرید یک دستگاه مرطوب‌کننده خانگی به دست آورد.
جانگ در آزمایشگاه یو لی از دپارتمان مهندسی شیمی همکاری می‌کند، آن‌ها نتایج یافته‌های خود را در Journal of Vacuum Science & Technology A به چاپ رسانده‌اند.
لی در این باره گفت: «ALD یک روش لایه نشانی اتمی فیلم سه‌بعدی است که نقش مهمی در صنعت میکروالکترونیک داشته و در واحد‌های پردازش مرکزی این صنعت برای تولید حافظه استفاده می‌شود.»
در هر چرخه ALD لایه‌ای به عمق چند اتم رسوب می‌کند، یک فرآیند ALD شامل چندین تکرار چرخه لایه نشانی است. یکنواختی فیلم‌های نازک به واکنش خود محدود کنندگی سطحی میان بخار پیش ماده و زیرلایه بستگی دارد.
لی افزود: «ALD در حالی که مواد را به صورت یکنواخت روی ویفر‌های بزرگ سیلیکونی رسوب می‌دهد، برای تولید با حجم بالا و ایجاد مورفولوژی نانومتری مناسب است. این یک روش کلیدی برای تولید دستگاه‌های هوشمند قدرتمند و کوچک است.»
جانگ هنگام بررسی رطوبت‌ساز‌های خانگی متوجه شد که این دستگاه‌ها از حرارت مستقیم با دمای بالا یا امواج اولتراسونیک در دمای اتاق برای تولید ذرات بخار آب استفاده می‌کنند.
لی می‌گوید: «ما دریافتیم که روش دوم (اولتراسونیک) می‌تواند روشی ایمن و ساده برای تولید بخار از مواد شیمیایی باشد، به ویژه برای موادی که از نظر حرارتی ناپایدار هستند. روز بعد ما برای اثبات این مفهوم در آزمایشگاه تحقیقاتی خود، آزمایش‌هایی را طراحی کردیم و تمام مراحل کار تقریبا یک سال طول کشید.»
با استفاده از این فناوری که محققان این پروژه ابداع کردند می‌توان موادی که از نظر حرارتی ناپایدار بوده و برای گرمایش مستقیم مناسب نیستند را برای ALD به کار گرفت.
ارسال نظرات