با عرضه نسل جدیدی از تجهیزات لیتوگرافی نانوچاپ؛
به گزارش گروه فناوری خبرگزاری دانشجو، گروه صنعتی ای‌وی‌جی (EVG)، پیشرو در تأمین تجهیزات اتصال ویفر و لیتوگرافی برای بازار‌های MEMS، فناوری نانو و نیمه‌هادی‌ها، به تازگی از دستگاه EVG®۷۷۰ NT، سیستم چاپ لیتوگرافی نانوچاپ مرحله‌ای و تکراری نسل بعدی خود رونمایی کرد.
EVG ۷۷۰ NT امکان تکثیر دقیق الگو‌های کوچک و نانومقیاس را برای ساخت استمپ اصلی در مساحت بزرگ مورد استفاده در تولید با حجم انبوه هدایت موج واقعیت افزوده (AR)، اپتیک سطح ویفر (WLO) و آزمایشگاه روی تراشه را فراهم می‌کند.
دستگاه‌های NIL مرحله‌ای و تکراری که اکنون در صنعت استفاده می‌شوند، با محدودیت‌هایی روبه رو هستند. با بهره‌گیری از چندین دهه تجربه EVG در NIL، EVG ۷۷۰ NT به عنوان یک سیستم کاملاً تولید محور برای به حداکثر رساندن عملکرد، بهره‌وری و قابلیت کنترل فرآیند طراحی شده است. دقت و وضوح پوشش برتر در صنعت را با مقیاس‌پذیری تا ۳۰۰ میلی‌متر ویفر و اندازه‌های صفحه Gen-۲ فراهم می‌کند. در نتیجه، مشتریان اکنون می‌توانند NIL با حجم تولید بالا و مقرون به صرفه را در دسترس داشته باشند.
از فوکوس خودکار بهبود یافته برای دوربین‌های دیجیتال تلفن‌های هوشمند و تشخیص چهره برای امنیت بیشتر تلفن‌های هوشمند گرفته تا مدل‌سازی سه‌بعدی و تصویربرداری برای AR و واقعیت مجازی (VR) همه نیاز به فناوری NIL دارند. همچنین این فناوری ساختار‌های کوچک مورد استفاده در دستگاه‌های میکروسیالی را امکان‌پذیر می‌کند که در این کاربرد‌ها از فناوری NIL برای ایجاد الگو‌های اصلی و استمپ استفاده می‌شود.
توماس گلینسنر، از مدیران گروه EVG اظهارکرد: «گروه صنعتی ای‌وی‌جی بیش از یک دهه در توسعه فناوری NIL مرحله‌ای و تکراری سرمایه‌گذاری کرده است تا مزایای تولیدی NIL را به طیف وسیعی از بازار‌ها ارائه کند.»
وی افزود: «نتیجه این تلاش منجر به ساخت EVG ۷۷۰ NT شده است که حلقه گمشده در این صنعت است. با این موفقیت، مشتریان ما اکنون توانایی ایجاد الگو‌های اصلی خود را دارند. برای مشتریانی که مایل به استفاده از NIL برای محصولات جدید یا نیاز‌های تولید کمی هستند، EVG خدمات تسلط گام به گام را در مرکز صلاحیت NILPhotonics® ارائه می‌دهد.»
ارسال نظرات