کد خبر:۹۸۱۰۲۹
دستگاهی برای تولید قطعات الکترونیکی فشرده‌تر
گروه صنعتی ای‌وی‌جی (EVG)، پیشرو در تأمین تجهیزات اتصال ویفر و لیتوگرافی برای بازار‌های MEMS، فناوری نانو و نیمه‌هادی‌ها، به تازگی از دستگاه EVG ۴۰ NT ۲، خود رونمایی کرده است.
به گزارش گروه دانشگاه خبرگزاری دانشجو، به نقل از ستاد فناوری نانو، گروه صنعتی ای‌وی‌جی (EVG)، پیشرو در تأمین تجهیزات اتصال ویفر و لیتوگرافی برای بازار‌های MEMS، فناوری نانو و نیمه‌هادی‌ها، به تازگی از دستگاه EVG ۴۰ NT ۲، خود رونمایی کرده است. سیستم EVG ۴۰ NT ۲ برای اولین‌بار در نمایشگاه SEMICON Europa که از ۱۶ تا ۱۹ نوامبر در Messe München در مونیخ آلمان برگزار شد، به نمایش درآمد.
EVG ۴۰ NT ۲ که برای تولید در حجم بالا با حلقه‌های بازخورد برای تصحیح و بهینه‌سازی فرآیند در زمان واقعی طراحی شده است، به تولیدکنندگان دستگاه، ریخته‌گری‌ها و دیگر تولیدکنندگان کمک می‌کند تا در تولید محصولات جدید خود ادغام قطعات سه‌بعدی/ناهمگن را تسریع کنند و همچنین بازدهی را بهبود بخشند.
دکتر توماس گلینزنر، از مدیران گروه EV، اظهار داشت: «کنترل فرآیند برای برنامه‌های سه‌بعدی و یکپارچه‌سازی ناهمگن به‌طور فزاینده‌ای حیاتی است. EVG ۴۰ NT ۲ یک پیشرفت بزرگ در عملکرد اندازه‌شناسی برای پاسخگویی به تقاضا‌های جدید برای صنعت ساخت قطعات الکترونیکی فشرده است. این فناوری نه تنها دقت همپوشانی بیشتری را فراهم می‌کند، بلکه افزایش قابل توجهی در توان عملیاتی را برای فعال کردن چگالی اندازه‌گیری بالاتر در هر ویفر را نیز فراهم می‌کند. این دستگاه بازخورد دقیق‌تری در مورد عملکرد پیوند هیبریدی ارائه می‌دهد. این راه‌حل جدید، فرآیند‌هایی فعلی EVG را برای ادغام سه‌بعدی/ناهمگن تکمیل می‌کند و سیستم EVG ۴۰ NT موجود ما برای همین منظور طراحی شده است. EVG ۴۰ NT ۲ در حال حاضر نقش کلیدی را در چندین پروژه توسعه مشترک ایفا می‌کند.»
از آنجایی که مقیاس بندی سیلیکونی دوبعدی سنتی به محدودیت‌های هزینه‌ای خود می‌رسد، صنعت نیمه‌هادی به منظور افزایش عملکرد یک قطعه الکترونیکی، به ادغام ناهمگن یعنی تولید، مونتاژ و بسته‌بندی چندین جزء مختلف یا قالب‌ها با اندازه و مواد مختلف روی یک دستگاه، روی آورده است. از آنجایی که با افزایش تعداد قطعات و سازه‌ها، فضای کاری محدودتر می‌شود، فرآیند‌های همترازی باند ویفر و قالب نیز باید بر اساس آن مقیاس‌بندی شوند. این کار منجر به بازده تولید بالاتر می‌شود.
سیستم EVG ۴۰ NT ۲ اندازه‌گیری‌های بسیار دقیق پارامتر‌های فرآیند لیتوگرافی را برای برنامه‌های یکپارچه‌سازی سه‌بعدی/ناهمگن پیشرو فعلی و آینده فراهم می‌کند.
برای تأیید همترازی، EVG ۴۰ NT ۲ یک مدل پوشش تولید می‌کند که می‌تواند در یک حلقه بازخورد برای بهبود هم ترازی کلی استفاده شود. این امر خطا‌های سیستماتیک را کاهش می‌دهد و منجر به افزایش بازده تولید می‌شود. این سیستم با مفاهیم بهینه‌سازی مورد نیاز کارخانه‌های نسل بعدی که از تولید صنعت ۴٫۰ پشتیبانی می‌کنند، سازگار است.
گروه EVG یکی از تامین‌کننده‌های پیشرو در تجهیزات و راه حل‌های فرآیندی برای ساخت قطعات نیمه هادی، سیستم‌های میکروالکترومکانیکی (MEMS)، نیمه هادی‌های ترکیبی و ادوات حوزه فناوری نانو است. محصولات کلیدی این شرکت شامل پردازش ویفر نازک، لیتوگرافی/لیتوگرافی نانوامپرنت (NIL) و تجهیزات اندازه‌شناسی و همچنین پوشش‌های مقاوم به نور، پاک‌کننده‌ها و سیستم‌های بازرسی است. گروه EV که در سال ۱۹۸۰ تأسیس شد، شبکه‌ای پیچیده از مشتریان و شرکا را در سراسر جهان پشتیبانی می‌کند.
لینک کپی شد
گزارش خطا
۰
اخبار مرتبط
ارسال نظر
*شرایط و مقررات*
خبرگزاری دانشجو نظراتی را که حاوی توهین است منتشر نمی کند.
لطفا از نوشتن نظرات خود به صورت حروف لاتین (فینگیلیش) خودداری نمايید.
توصیه می شود به جای ارسال نظرات مشابه با نظرات منتشر شده، از مثبت یا منفی استفاده فرمایید.
با توجه به آن که امکان موافقت یا مخالفت با محتوای نظرات وجود دارد، معمولا نظراتی که محتوای مشابهی دارند، انتشار نمی یابد.