دریچه‌ای برای بهبود کارایی سامانه‌های لایه‌نشانی اتمی طراحی شد

به گزارش گروه فناوری خبرگزاری دانشجو، شرکت سواگلوک ارائه دهنده رهیافت‌های جدید برای سامانه‌های سیالی و لایه‌نشانی، اعلام کرد که دریچه‌های با خلوص بالا (UHP) را برای استفاده در سیستم‌های لایه‌نشانی اتمی ارائه کرده است. این دریچه‌ها برای تجهیزاتی که در آن جریان سیال یا گاز وجود دارد، قابل استفاده است.

از زمانی که فناوری لایه‌نشانی اتمی به بازار عرضه شده، شرکت سواگلوک با شرکت‌های تولیدکننده ابزار‌های نیمه‌هادی و تولیدکنندگان تراشه وارد همکاری شده است تا به آن‌ها در تامین نیاز‌های خود کمک کند.

این دریچه که به ALD ۲۰ شهرت دارد، نتیجه همکاری شرکت سواگلوک با تولیدکنندگان تجهیزات است. این دریچه به این شرکت‌ها کمک می‌کند تا بتوانند طراحی بهتری را در ساخت تجهیزات تجربه کنند و در نهایت امکان ایجاد فشار بخار کم در دستگاه‌های لایه‌نشانی اتمی فراهم شود.

این فناوری که پتنت آن در حال ثبت است، کارایی فرآیند تولید را به بیشینه مقدار خود می‌رساند و یکنواختی لایه ایجاد شده را بهبود می‌دهد. این کار با دو تا سه برابر کردن ضریب جریان انجام می‌شود.

با استفاده از این فناوری می‌توان سرعت جریان را به ۱٫۲ Cv در دستگاه‌های لایه‌نشانی اتمی رایج رساند. بنابراین، کاربر می‌تواند خروجی تولید را افزایش دهد بدون این که نیاز به تغییرات اضافی در سیستم یا استفاده مجدد از سیستم باشد.

این دریچه می‌تواند در یک محفظه در بازه دمایی ۱۰ درجه سانتی‌گراد تا ۲۰۰ درجه سانتی‌گراد کار کند و موجب افزایش پایداری حرارتی و یکنواختی لایه ایجاد شده، شود. همچنین این دریچه دارای بدنه‌ای از فولاد ضدزنگ بوده که در برابر خوردگی نیز مقاوم است و می‌تواند استحکام دستگاه را در برابر ترکیبات خورنده حفظ کند.

گریک جوزف مدیر بازرگانی شرکت سواگلوک می‌گوید: «ALD ۲۰ پاسخی به نیاز‌هایی است که سریع در صنعت نیمه‌هادی ایجاد می‌شوند. ما از طریق مشارکت با رهبران صنعتی و استفاده از تجربیات مهندسی خود، محصولی به بازار عرضه کرده‌ایم که به مشتریان ما امکان می‌دهد تا به‌طور موثر از پیش‌ماده‌های گازی استفاده کنند کاری که پیش از این چالش‌برانگیز بود.»